什么是平場聚焦鏡？指的是工作在物鏡焦平面附近，可以有效減小探測器尺寸的透鏡，一般叫法叫場鏡。準確來說，場鏡應該工作在物鏡的像平面。一方面： 場鏡的物平面和主平面重合，由主平面的特性可知其放大率為1，因此對系統的放大率無貢獻；另一方面，場鏡應該將物鏡的光闌面投影在目鏡的入瞳上，對于單透鏡而言，光闌面也就是出瞳，這樣可以保證物鏡的出射光能夠最大限度的通過目鏡。如果用在掃描系統中，則探測器替代了目鏡的入瞳。

按照波長分：1064nm場鏡（也叫YAG場鏡）、10.6微米場鏡（也叫CO2場鏡）、532nm場鏡（也叫綠光場鏡）、355nm場鏡（也叫紫外場鏡）。按照設計理念分：f-theta透鏡和遠心透鏡，遠心透鏡成本很高，在工業系統中主要適應的是f-theta透鏡。

場鏡的功能特點：

（1）提高邊緣光束入射到探測器的能力；

（2）在相同的主光學系統中，附加場鏡將減少探測器的面積。如果使用同樣的探測器的面積，可擴大視場，增加入射的通量；

（3）可讓出像面位置放置調制盤，以解決無處放置調制器的問題；

（4）使探測器光敏面上的非均勻光照得以均勻化；

（5）當使用平像場鏡時，可獲得平場像面；

（6）在像差校正方面，可以補償系統的場曲和畸變。

場鏡可用來補償系統的場曲和畸變。例如若在像面處加負場鏡產生的正場曲和正畸變可以補償整個系統的負場曲和畸變，而不影響其它像差。

技術指標:選用場鏡，主要考慮的技術參數是工作波長、入射光瞳、掃描范圍和聚焦光斑直徑。

（1）工作波長：主要是看激光器的波長，場鏡是在給定的激光波長鍍膜的。如果不在給定的波長范圍內用場鏡，場鏡會被激光燒壞的。

（2）入射光瞳：如使用的是單片鏡，反射鏡置于入射光瞳的地方，最大可用光束的直徑等于入射光瞳的直徑。

（3）掃描范圍：場鏡能掃描到的范圍越大，當然越受使用者的歡迎。但是如果增加掃描范圍，聚焦光點變大，失真度也要加大。另外加大掃描范圍，場鏡焦距和工作距也要加大。工作距離的加長，必然導致激光能量的損耗。還有聚焦后的光斑直徑跟焦距成正比，這意味著加大掃描范圍，聚焦光斑直徑跟著加大，光斑聚得不夠細，激光的功率密度下降非常快（功率密度跟光斑直徑的2次方成反比），不利于加工。所以使用者要根據不同的加工面積選用最適合的場鏡，或者備用幾個不同掃描范圍的場鏡。

（4）聚焦光斑直徑：對于入射激光束直徑D、場鏡焦距F和光束質量因子Q的掃描系統，聚焦光斑直徑d = 13.5QF/D (mm)。所以用擴束鏡可以得到更小的聚焦光斑。

本產品主要用于激光打標機、舞臺燈光中，也可用于科學試驗和激光測量儀器中。

場鏡的主要作用

1、提高邊緣光束入射到探測器的能力；

2、在相同的主光學系統中，附加場鏡將減少探測器的面積；如果使用同樣的探測器面積，可擴大視場，增加入射的通量；

3、使探測器光敏面上的非均勻光照得以均勻化。

平場聚焦鏡是激光打標機的重要部件之一，目的是將激光聚焦在整個工件的打標平面上。 主要性能指標如下：
 
 1.掃描范圍。 鏡頭可以掃描的區域越大，當然它就越受歡迎。 但是如果盲目增加掃描面積，將會帶來很多問題。 如光斑變粗，失真增加等。  
 
 2.焦距（與工作距離有一定關系，但不等于工作距離）。  
 
①掃描范圍與物鏡的焦距成正比。 掃描范圍的增加將不可避免地導致工作距離的增加。 工作距離的延長將不可避免地導致激光能量的損失。  
 
②焦點的直徑與焦距成正比。 當掃描區域達到一定水平時，所獲得光斑的直徑非常大，即焦點不夠小，并且激光的功率密度會很快下降（功率密度與秒數成反比）。 光斑直徑的最大功率），這不利于加工。  
 
③因為F-Theta物鏡使用y'= f *θ的關系起作用，所以θ和tgθ的實際值仍然不同。 并且隨著焦距f的增加，畸變程度將變得越來越大。  
 
 3.工作波長。 目前，市場上使用的大多數是1064nm和10.6um。 但是隨著激光器的發展，532nm，355nm和266nm的物鏡也會有相應的應用。  
 
場鏡的主要評估因素：
 
 1.平面焦點的均勻性，整個表面上的焦點越均勻，質量就越好。  
 
 2.激光透射率，即功率損耗。 激光透射率越強，功耗越低，質量越好。